Dua jenis proses pelapisan yang sangat umum adalah PVD dan CVD. Tapi apa perbedaan antara keduanya? Dalam posting blog ini, kami akan mengeksplorasi perbedaan antara pelapis PVD dan CVD, dan mendiskusikan proses mana yang paling cocok untuk aplikasi Anda.
Apa itu PVD?
PVD adalah singkatan dari Deposisi Uap Fisik, dan ini adalah proses yang digunakan untuk melapisi logam dengan lapisan tipis dari bahan lain. Pelapis PVD biasanya lebih keras dan lebih tahan lama daripada bahan yang dilapisinya, dan dapat meningkatkan kinerja logam yang mendasarinya dalam beberapa cara.
- Misalnya, pelapis PVD dapat meningkatkan ketahanan aus, meningkatkan ketahanan korosi, atau memberikan permukaan yang lebih baik untuk cat atau ikatan perekat. Pelapis PVD juga sering digunakan untuk memperbaiki tampilan logam, dengan memberikan hasil akhir yang berkilau atau mengubah warna logam.
- Pelapis PVD diterapkan dalam ruang vakum, di mana logam dipanaskan hingga suhu tinggi dan kemudian dibombardir dengan ion bahan pelapis.
- Reaksi yang dihasilkan menghasilkan film yang sangat tipis dari bahan pelapis yang terikat pada permukaan logam. Pelapis PVD digunakan di berbagai industri, mulai dari pembuatan perhiasan hingga implan medis hingga alat pemotong.
Apa itu CVD?
CVD adalah jenis deposisi uap kimia. Ini adalah proses yang digunakan untuk membuat film tipis dengan menyimpan bahan ke substrat. CVD biasanya dilakukan di ruang yang berisi substrat, serta gas atau uap yang mengandung molekul reaktan.
Substrat dipanaskan sampai suhu tinggi, yang menyebabkan molekul reaktan terurai dan mengendap ke permukaan. CVD dapat digunakan untuk membuat film dari berbagai bahan, termasuk logam, semikonduktor, dan isolator. CVD adalah teknik fabrikasi penting untuk banyak perangkat elektronik, karena dapat digunakan untuk membuat film tipis dan seragam dengan sifat yang sangat baik.
Perbedaan antara PVD dan CVD
PVD dan CVD adalah dua jenis pelapis berlian. PVD adalah kependekan dari Deposisi Uap Fisik, dan CVD adalah kependekan dari Deposisi Uap Kimia. Lapisan PVD dibuat dengan mengembunkan uap ke substrat, sedangkan lapisan CVD dibuat dengan mereaksikan molekul gas secara kimia untuk menyimpan lapisan ke substrat. Pelapis PVD biasanya tipis dan memiliki permukaan yang halus, sedangkan pelapis CVD bisa lebih tebal dan memiliki permukaan yang lebih kasar. Pelapis PVD lebih tahan lama daripada pelapis CVD dan dapat menahan suhu yang lebih tinggi, tetapi pelapis CVD dapat disimpan ke berbagai bahan yang lebih luas.
Kesimpulan
Dua jenis pelapis utama adalah Deposisi Uap Fisik (PVD) dan Deposisi Uap Kimia (CVD). Pelapis PVD menggunakan proses fisik untuk menyimpan pelapis, sedangkan pelapis CVD menggunakan reaksi kimia. Kedua proses tersebut memiliki kelebihan dan kekurangannya masing-masing, jadi penting untuk memahami perbedaannya sebelum Anda melakukan pembelian.